主要製品案内

情報・電気電子産業関連製品

ＩＴ（情報技術）関連分野における技術革新は日進月歩。当社は得意の高分子薬剤や界面活性剤などの技術を活かしたニーシーズ指向の開発で、同分野の技術革新をサポートしています。

重合トナー中間体、トナーバインダー

複写機やプリンターのデジタル化、カラー化に伴ない高精細な画像を描ける粉体インキ（トナー）が求められおり、今は化学的に微粒子化した重合トナーが注目されています。アペックスナローは、粒径が均一で細かいポリエステルタイプの重合トナー中間体で、より高精細な画像を描けるトナーをつくるのに適しています。トナーバインダーハイマーは、機械的に粉砕してつくられる粉砕トナーに使用される樹脂成分です。スチレン－アクリルタイプ、ポリエステルタイプがあり、用途に合わせた製品をお届けしています。

お問い合わせ先：情報産業部 TEL：03-5200-3467

　

重合トナー中間体、トナーバインダー

アルミ電解コンデンサ用電解液

サンエレックはアルミ電解コンデンサ用の電解液です。電気伝導率が高く耐久性にも優れていますので、コンデンサの小型化、長寿命化に役立っています。また、優れた耐熱性を活かして、自動車の電装用にも用途が広がっています。

お問い合わせ先：電子材料産業部 TEL：03-5200-3589

　

アルミ電解コンデンサ用電解液

電気二重層キャパシタ用電解液

電気二重層キャパシタは、急速充電、大電流放電が可能な新しい蓄電素子として注目されています。パワーエレックは、自動車の電動ブレーキやコンピュータの緊急バックアップ電源用電気二重層キャパシタの電解液として使われています。また、ハイブリッド自動車のアシスト電源としての用途展開も期待されています。

お問い合わせ先：電子材料産業部 TEL：03-5200-3589

　

電気二重層キャパシタ用電解液

ハードディスク用洗浄剤

ケミクリーンPRは大記録容量ハードディスク製造用に開発された洗浄剤です。ハードディスクの製造工程において、研磨などで発生する微小な異物の洗浄・除去性に優れた効果を発揮します。

お問い合わせ先：電子材料産業部 TEL：03-5200-3589

　

ハードディスク用洗浄剤

半導体加工用薬剤

ICやLSIなどの半導体集積回路は何段階もの工程を経てつくられており、各工程では加工用薬剤が使用されています。ハイスタットSKはシリコンインゴットをスライスするときの切削剤として、ケミクリーンPRはシリコンウエハ加工時の種々の工程での洗浄剤として使われています。 CMP後洗浄剤は、CMPスラリーを用いて平坦化したあとのシリコンウエハの洗浄剤です。ESC、LPやジャスペンは、CMPスラリーや有機物に対する洗浄性が高く、配線材料である銅に対する腐食性がなく、ウォーターマークを残さないなどの特長があります。（ESC、LPは米国ATMI社の製品です） CMP（Chemical Mechanical Planarization）:化学的および機械的な研磨によりIC製造における配線形成工程のシリコンウエハを平坦化する技術。

お問い合わせ先：電子材料産業部 TEL：03-5200-3589

　

半導体加工用薬剤

光酸発生剤

光酸発生剤は、光を照射することによって酸を発生する機能を持つ材料で、半導体や液晶ディスプレーの各種レジスト材料やエポキシ樹脂などのカチオン重合タイプの光硬化樹脂に用いられます。CPIシリーズは当社の関係会社サンアプロが独自に開発した光酸発生剤で、目的や用途に応じた開発品をラインアップしています。

サンアプロ株式会社ホームページはこちら　URL http://www.san-apro.co.jp/

　

光酸発生剤を用いた光造形用樹脂成形品

　

　

　